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​全垂直芯片結(jié)構(gòu)憑何立足Mini/Micro LED顯示行業(yè)?
編輯:心怡 [ 2021-4-19 10:31:15 ] 晶能光電LED
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在高清RGB顯示屏芯片領(lǐng)域,正裝、倒裝和垂直結(jié)構(gòu)“三足鼎立”,其中以普通藍(lán)寶石正裝和倒裝結(jié)構(gòu)較為常見,垂直結(jié)構(gòu)通常是指經(jīng)過襯底剝離的薄膜LED芯片,襯底剝離后邦定新的基板或者可以不邦定基板,做成垂直芯片。

對應(yīng)不同間距的顯示屏,正裝、倒裝和垂直三種結(jié)構(gòu)的優(yōu)劣勢各異,但無論是對比正裝結(jié)構(gòu)還是倒裝結(jié)構(gòu),垂直結(jié)構(gòu)在某些方面的優(yōu)勢顯而易見。


晶能光電江西總經(jīng)理梁伏波

P1.25-P0.6:四大優(yōu)勢脫穎而出

晶能光電江西總經(jīng)理梁伏波在2021年集邦咨詢新型顯示產(chǎn)業(yè)研討會現(xiàn)場介紹,晶能通過實驗對比了晶能的垂直5×5mil芯片與JD公司的正裝5×6mil芯片的性能。結(jié)果證明,相比正裝芯片,垂直芯片因單面發(fā)光、無側(cè)光,隨著間距的變小而產(chǎn)生光干擾更少,換言之,間距越小亮度損失越少。因此,垂直芯片在越小間距上的發(fā)光強度和顯示清晰度都有明顯的優(yōu)勢。

具體來看,垂直芯片呈朗勃發(fā)光形貌,出光均勻,容易配光,散熱性能好,所以顯示效果清晰;此外,垂直電極結(jié)構(gòu),電流分布更均勻,IV曲線一致性好,而水平芯片因電極在同側(cè),有電流堵塞,光斑均勻性差。

在生產(chǎn)良率方面,垂直結(jié)構(gòu)相比普通正裝結(jié)構(gòu)能少打兩根線,器件內(nèi)打線面積更充足,可有效增加設(shè)備產(chǎn)能,使器件由于焊線原因造成的不良率下降一個數(shù)量級。

在顯示屏應(yīng)用中,“毛毛蟲”現(xiàn)象一直以來都是困擾廠商的主要問題,而這種現(xiàn)象發(fā)生的根源就是金屬遷移。

梁伏波介紹,金屬遷移與芯片的溫度、濕度、電位差和電極材料緊密相關(guān),在更小間距的顯示屏中更容易出現(xiàn)。而全垂直芯片結(jié)構(gòu)在解決金屬遷移方面也有著天然的優(yōu)勢。

一是垂直結(jié)構(gòu)芯片正負(fù)極之間距離大于135μm,由于正負(fù)極在物理空間的距離較大,即便發(fā)生金屬離子遷移,垂直芯片燈珠壽命也能夠比水平芯片長4倍以上,極大地提高了產(chǎn)品的可靠性和穩(wěn)定性。

二是垂直結(jié)構(gòu)的藍(lán)綠芯片表面為全惰性金屬電極Ti/Pt/Au,較難發(fā)生金屬遷移,主要性能與紅光垂直芯片一樣。

三是垂直結(jié)構(gòu)芯片采用銀膠,導(dǎo)熱性能好,燈內(nèi)溫度相對于正裝水平低很多,可以大幅度降低金屬離子遷移速度。

由此可見,相比普通正裝方案,垂直方案性能表現(xiàn)更佳,良率和可靠性更高。

現(xiàn)階段,在P1.25-P0.9應(yīng)用中,盡管普通正裝方案因低價優(yōu)勢而占據(jù)主要市場,但倒裝方案和垂直方案憑借更高的性能,在高端應(yīng)用領(lǐng)域扮演主要角色。成本方面,垂直方案的RGB一組芯片價格是倒裝方案的1/2,因此垂直結(jié)構(gòu)的性價比高出一籌。

在P0.6-P0.9mm應(yīng)用中,普通正裝方案受限于物理空間極限,難以保證良率,量產(chǎn)可能性低,倒裝和垂直芯片方案則能夠滿足要求。值得注意的是,對于封裝廠而言,選用倒裝結(jié)構(gòu)方案需增加大批設(shè)備,且由于倒裝芯片的兩個焊盤極小造成錫膏焊接良率不高,而垂直芯片方案封裝工藝成熟度高,現(xiàn)有封裝廠設(shè)備可以通用,加上垂直芯片一組RGB的成本只有倒裝芯片一組RGB的一半,垂直方案整體的性價比亦高于倒裝方案。

因此,在性能水平相當(dāng)?shù)臈l件下,現(xiàn)階段垂直結(jié)構(gòu)的性價比高于倒裝結(jié)構(gòu)。總的來說,垂直芯片結(jié)構(gòu)在1.25-P0.6顯示屏應(yīng)用中將以四大優(yōu)勢占據(jù)一方市場。

P0.6-P0.3:兩大技術(shù)路線加持

對于P0.6-P0.3應(yīng)用,晶能主打去襯底薄膜芯片技術(shù)Thin Film LED,涵蓋垂直結(jié)構(gòu)和倒裝結(jié)構(gòu)。Thin film LED一般指經(jīng)過襯底剝離的薄膜LED芯片,襯底剝離后邦定新的基板或者可以不邦定基板做成垂直結(jié)構(gòu),稱為Vertical thin film,簡稱VTF。同時,還可以不邦定基板,做成倒裝結(jié)構(gòu),稱為thin film flip chip,簡稱TFFC。

梁伏波介紹,針對P0.6-P0.3等超小間距顯示屏的需求,晶能基于Thin Film LED技術(shù),研發(fā)出兩種相對成熟的技術(shù)路線方案。

技術(shù)路線一:VTF/TFFC芯片+量子點紅光(QD+藍(lán)光InGaN LED)

在極小芯片尺寸下,傳統(tǒng)的AlGaInP紅光LED因其去襯底后機械性能很差,在轉(zhuǎn)移過程中極容易碎裂,很難進(jìn)行后續(xù)的批量工藝生產(chǎn)。因此,一種解決方案就是采用印刷、噴涂、打印等技術(shù),在GaN藍(lán)光LED表面放置量子點,獲得紅色LED。

技術(shù)路線二:RGB三色均采用InGaN LED

由于現(xiàn)有四元紅光去襯底后機械強度不夠,很難進(jìn)行后續(xù)的工藝生產(chǎn),而另一個解決方案就是RGB三色均為InGaN LED,同時實現(xiàn)外延、芯片制程的統(tǒng)一。據(jù)介紹,晶能已經(jīng)展開在硅襯底上生長氮化鎵紅光研發(fā),且硅基InGaN紅光LED取得了一些成績,為該技術(shù)提供可能。

值得注意的是,晶能通過對比TFFC、FC、Micro三種芯片在襯底、芯片分離、發(fā)光效率和巨量轉(zhuǎn)移等方面的優(yōu)缺點,得出一個結(jié)論:用Micro的技術(shù)路線與晶能的Mini芯片相結(jié)合,在降低技術(shù)難度的同時,可大幅降低芯片成本。這也意味著4K、8K Mini超高清顯示的LED大屏幕產(chǎn)品有望走進(jìn)千家萬戶。

Mini LED:技術(shù)研發(fā)和專利布局并進(jìn)

早在2018年下半年,晶能就開始研發(fā)Mini RGB顯示屏應(yīng)用5×5mil硅襯底垂直芯片,發(fā)光區(qū)為90×90um,研究期間克服了外延芯片制程良率、ESD等難題。

梁伏波介紹,垂直Mini LED的藍(lán)綠芯片和紅光芯片有相同的芯片高度,且都是單面出光,顯示對比度、發(fā)光角度有優(yōu)異表現(xiàn);同時,垂直結(jié)構(gòu)的藍(lán)綠芯片可完全避免客戶端長時間使用產(chǎn)生的金屬離子遷移導(dǎo)致的屏幕黑點異;此外,得益于成熟的封裝工藝,封裝廠現(xiàn)有大部分設(shè)備可以無縫對接,大幅度降低封裝廠固定資產(chǎn)投入。

目前,晶能5×5mil硅襯底垂直芯片已于2020年7月開始正式量產(chǎn),目前處于小批量出貨階段,同時繼續(xù)配合更多客戶進(jìn)行產(chǎn)品測試和驗證。

根據(jù)規(guī)劃,晶能預(yù)計適用P1.25-P0.7間距的4×4mil硅垂直藍(lán)綠芯片將于2021年第四季度末實現(xiàn)量產(chǎn)。而2×4mil硅垂直紅藍(lán)綠芯片預(yù)計2023年第四季度末實現(xiàn)量產(chǎn),適用于P0.6-P0.3間距,根據(jù)實際性價比,應(yīng)用間距可向上至P0.7。

顯然,晶能的技術(shù)研發(fā)工作正在循序漸進(jìn)地推進(jìn),而專利技術(shù)布局也盡在掌握之中。

目前,晶能已擁有超過420項全球?qū)@w了外延材料、芯片應(yīng)用的整個產(chǎn)業(yè)鏈,其中,基于硅襯底的垂直結(jié)構(gòu)Mini LED芯片在國內(nèi)外都擁有技術(shù)專利保護。基于戰(zhàn)略客戶對硅襯底Mini LED產(chǎn)品的反饋,晶能接下來會考慮進(jìn)一步擴產(chǎn)。

小結(jié):當(dāng)下,4K、8K Mini超高清顯示大屏在5G技術(shù)的驅(qū)動下勢不可擋,硅襯底垂直Mini LED芯片有機會成為一種超高性價比光源解決方案。

“是金子總會發(fā)光”,垂直芯片結(jié)構(gòu)擁有高性能、高性價比、高可靠性和高良率等優(yōu)勢,立足于Mini/Micro LED顯示領(lǐng)域自然是毋庸置疑的。隨著以晶能為代表的廠商持續(xù)挖掘垂直結(jié)構(gòu)的潛力,未來硅襯底垂直Mini LED芯片的應(yīng)用觸角將不斷延伸。


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